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      導電玻璃激光刻蝕機的選型介紹

      發(fā)布時(shí)間:2020-04-15 來(lái)源:元祿光電

      導電玻璃是指透明導電氧化物,如氧化銦錫ITO、摻雜氟的SnO2 FTO、氧化鋅ZnO、氧化鎳NiO、納米銀等,部分為銅、鋁、金等材料,以玻璃為基材,通過(guò)磁控濺射等方式將導電材料生長(cháng)在玻璃上的產(chǎn)品,常用于觸摸屏、光伏太陽(yáng)能電池、戶(hù)外顯示、航空航天等諸多領(lǐng)域當中。

       

      導電玻璃在產(chǎn)品成型之前需要對其進(jìn)行刻蝕加工,形成電路圖,光伏行業(yè)主要是劃線(xiàn),做成一個(gè)個(gè)小單元的電極,增大電壓,無(wú)論哪一個(gè)應用領(lǐng)域,都需要對其進(jìn)行刻蝕加工。目前刻蝕工藝主要分為激光刻蝕、等離子刻蝕、化學(xué)刻蝕以及機械劃線(xiàn)等幾種方式,武漢元祿光電為大家介紹幾種刻蝕的方法、優(yōu)缺點(diǎn)以及重點(diǎn)介紹激光刻蝕機的選型。

       

      化學(xué)刻蝕:優(yōu)點(diǎn)是加工速度快,一次成型,適合大面積加工;缺點(diǎn)是添加劑具有毒性,并且具有一定的污染性,操作流程相對復雜,對掩膜版要求高,不具備超精密微納結構的加工能力。

       

      等離子刻蝕:超細微精密刻蝕,刻蝕線(xiàn)寬達到納米級,精度高;缺點(diǎn)是成本高,對使用環(huán)境等諸多要素都有極高要求。

       

      機械劃線(xiàn):主要優(yōu)勢是成本低廉;缺點(diǎn)也顯而易見(jiàn),對基材的損傷、線(xiàn)寬控制、精度控制、效果控制都不如其他加工,早期常應用于光伏太陽(yáng)能劃線(xiàn)。

       

      激光刻蝕:分為干法刻蝕和黃光曝光兩種,黃光曝光的優(yōu)勢在于一次成型,精度高、刻蝕效果好、精細,缺點(diǎn)是成本相對較高,具備污染性。干法刻蝕是指激光直接入射在材料表面無(wú)需任何添加劑,通過(guò)高能量的光束汽化材料,形成線(xiàn)路或斷路,相比較于其他幾種工藝,在導電玻璃行業(yè)中可謂星光熠熠,處處優(yōu)勢明顯,也是目前整個(gè)行業(yè)領(lǐng)域內最主流的機器。

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      激光刻蝕機

      激光刻蝕機的主要優(yōu)點(diǎn)是操作簡(jiǎn)便,導入CADGerber文件,通過(guò)振鏡偏轉、配合XY軸移動(dòng)形成大面積的刻蝕成型,無(wú)耗材、無(wú)污染,刻蝕干凈,最小線(xiàn)寬可達到亞納米級別,目前武漢元祿光電普通振鏡掃描方式,導電ITO玻璃最小線(xiàn)寬在3微米,而在實(shí)驗室內最小可達700nm線(xiàn)寬,特別適合于導電玻璃微納激光刻蝕。

       

      激光刻蝕機用于導電玻璃行業(yè)中主要激光波段為1064/532/355nm納秒、皮秒激光刻蝕機以及1030/515nm/355nm波段的飛秒激光刻蝕機,根據不同的應用場(chǎng)景需求,配置不同的激光器,并且會(huì )根據實(shí)際需求選擇不同的光學(xué)器件,如掃描幅面、擴束倍數、加工面積等條件。

       

      一般來(lái)說(shuō),激光刻蝕機的參考選型主要參考因素是導電玻璃的材料、幅寬、線(xiàn)寬、線(xiàn)間距要求,至于說(shuō)材料的厚度一般都是在幾百微米范圍內,有的甚至只有幾個(gè)納米,對于激光刻蝕機來(lái)說(shuō)不難加工,主要還是看熱影響范圍區域,加工后的線(xiàn)寬、線(xiàn)間距以及線(xiàn)性直線(xiàn)度、加工精度以及誤差等影響。

       

      因此確定激光刻蝕機的選擇需要明確以上幾點(diǎn),根據需求推薦對應的機器類(lèi)型,一般來(lái)說(shuō)紅外1064納秒激光刻蝕機主要適用于20微米以上線(xiàn)寬的加工要求,飛秒激光刻蝕機主要適用于多層材料的導電玻璃激光刻蝕,如特殊需求仍需以實(shí)驗試樣為準。

       

      推薦產(chǎn)品:飛秒激光刻蝕機

       


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